anyuge 在 环球时报:中国科技进步,路透社本不必焦虑 中发帖
据路透社2025年12月17日爆料,深圳团队于2025年初完成了一台EUV光刻机的原型机,而在2024年9月,工信部在《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》中公布了国产DUV光刻机的技术参数:分辨率65纳米、套刻精度8纳米。(援引自环球时报)
路透社爆料网址:https://www.reuters.com/world/china/how-china-built-its-manhattan-project-rival-west-ai-chips-2025-12-17/
详情链接:
https://linux.do/t/topic/1340958/1
来源: LINUX DO, 消息ID: 262948
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![van (@van_nhung) 在 【模型】qwen-image-layered发布了,期待佬们建一个用用 中发帖
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